Description du projet
L’émission ultraviolette extrême (EUV) à 13.5 nm du plasma d’étain est essentielle pour la nanolithographie de nouvelle génération dans l’industrie des semi-conducteurs, mais l’optimisation de son efficacité de conversion (CE) constitue un défi. Comprendre comment les paramètres laser, tels que la longueur d’onde, la durée d’impulsion et la structure temporelle, influencent la dynamique du plasma et le rendement EUV est essentiel pour concevoir des sources EUV plus efficaces, compactes et robustes. Ce projet consiste à développer un modèle hydrodynamique-radiatif 2D afin de simuler les interactions laser-étain, en prenant en compte l’absorption laser, l’expansion du plasma et les processus d’émission EUV. Ce modèle utilisera des paramètres expérimentaux en entrée et sera validé à l’aide de données sur le rendement et la spectroscopie.
Début du projet
Automne 2026 ou hiver 2027
Direction de recherche
François Vidal, professeur à l’INRS
Programme d’études
Doctorat en sciences de l’énergie et des matériaux
Profil recherché
Bonne formation générale en physique, de préférence en physique des plasmas et interaction laser-matière, et un intérêt marqué pour la modélisation informatique des phénomènes physiques.
Bourses d’études
Le soutien financier sera d’au moins 26,280 $ par an, conformément aux normes de l’INRS.
Lieu
Centre Énergie Matériaux Télécommunications de l’INRS
1650, boul. Lionel-Boulet
Varennes (Québec) J3X 1P7
Soumission d’une candidature
Les personnes intéressées peuvent soumettre leur dossier à François Vidal en utilisant le formulaire en ligne. Le dossier de candidature doit comprendre les documents suivants :
- une lettre d’intérêt
- un CV
- une copie de vos relevés de notes
- et tout autre pièce désirée au dossier
Questions
François Vidal
Courriel : francois.vidal@inrs.ca
Téléphone : 514-228-6918